跳至内容
深圳市捷比信实业有限公司 · 产品选型与采购咨询联系业务人员
采样电阻捷比信 · 专业器件主题站

三星部署并扩展EUV光刻工艺以提高性能

SK Hynix宣布在建的M14和M16工厂引入EUV光刻机后,三星不能坐以待still。据三星称,自2014年以来,EUV光刻技术已参与了超过400万个晶圆。该公司积累了丰富的经验,比其他制造商拥有更多的专业知识,领先其竞争对手一到两年。据报道,三星的1znmDRAM第三代存储器已经使用了一层EUV,第四代1anm将增加到4层。 EUV光刻机的参与可以减少多次曝光过程并提供过程精度,从而可以减少生产时间,降低成本并提高性能。虽然SK海力士,美光等也在尝试EUV,但是层数对效率的提高并不明显,也就是说,单位成本很高,毕竟购买EUV光刻机要花费10亿元。三星在这方面具有优势,因为它也有一个晶圆厂,并且“东方不光明,西方不光明”的利用率很高。光刻机很高。负责编辑AJX