据报道，上海微电子设备（集团）有限公司透露将在2021-2022年交付首台28nm浸没式光刻机。尽管与当前的主流荷兰7nm甚至5nm芯片制备工艺之间仍然存在很大差距，但这也标志着家用光刻机的飞跃，并正在逐步缩小与荷兰ASML公司的差距。毕竟，在此之前，家用光刻机仍为90nm。 。上海微电子是中国技术最先进的光刻设备制造商。它从低端进入了各个细分市场，现已成为领先的包装和测试公司的重要供应商，其国内市场份额为80％，全球市场份额为40％。同时，其LED / MEMS /功率器件光刻机具有领先的性能指标，而LED光刻机则拥有第一市场份额。上海微电子目前有4个主要系列的光刻机产品，其中600系列步进扫描投影光刻机以IC前端制造为导向，使用具有四倍缩小倍率的投影物镜，过程自适应聚焦和整平技术和高速高精度自阻尼六自由度工件台掩模台技术可用于90nm，110nm，280nm工艺和200mm，300mm晶圆生产。 500系列面向IC的高级封装，300系列面向LED，MEMS和功率器件制造，而200系列则面向TFT曝光。 ＆amp; nbsp; -结尾-