基于MasterGaN®平台的创新优势,意法半导体(STMicroelectronics)推出了MasterGaN2,作为新系列的双非对称氮化镓(GaN)晶体管系列的首款产品,该GaN集成适用于软开关有源钳位反激式拓扑解决方案。 2021年1月18日,基于MicroMasterGaN®平台的创新优势,意法半导体(STMicroelectronics)推出了MasterGaN2,这是新系列的双非对称氮化镓(GaN)晶体管系列的第一款产品,适用于软开关有源钳位GaN集成解决方案具有位反激式拓扑。
两个650V常关型GaN晶体管的导通电阻(RDS(on))分别为150mΩ和225mΩ。每个晶体管都集成了优化的栅极驱动器,从而使GaN晶体管像普通硅器件一样方便且易于使用。
MasterGaN2集成了GaN的高级驱动功能和固有的性能优势,可以进一步增强拓扑电路(例如有源钳位反激式转换器)的高能效,小尺寸和轻巧的优势。 MasterGaN功率级封装(SiP)系列在同一封装中集成了两个GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)和支持高压栅极驱动器,并内置了所有必要的保护功能。
设计人员可以轻松地将霍尔传感器和外部器件(例如DSP,FPGA或微控制器)直接连接到MasterGaN器件。输入与3.3V-15V逻辑信号兼容,有助于简化电路设计和物料清单,允许使用更小的电路板,并简化产品安装。
该集成解决方案有助于提高适配器和快速充电充电器的功率密度。 GaN技术正在推动USB-PD适配器和智能手机充电器向快速充电的发展。
ST的MasterGaN器件可使这些充电器的尺寸减小80%,重量减小70%,而充电速度是普通硅基解决方案的三倍。内置保护功能包括高端和低端欠压锁定(UVLO),栅极驱动器互锁,专用停机引脚和过热保护。
9mmx9mmx1mmGQFN是为高压应用而优化的封装,高低压焊盘之间的爬电距离超过2mm。 MasterGaN2现在已开始量产。
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